光譜透反射儀

  • 產品型號:FilmTek 1500
  • 制造原廠:Scientific Computing International

反射和透射分光光度法

反射分光光度法測量薄膜厚度
具有自動化XY平臺的FilmTek?1000
反射分光光度法測量薄膜厚度
FilmTek?1000M

FilmTek?1000系列是用于常規測量薄膜厚度和折射率的精確且經濟實惠的解決方案。它將光纖分光光度計與直觀的高性能材料建模軟件相結合,使日常測量任務可靠簡單。

FilmTek?1000M配置具有小的光斑尺寸,并配備手動或可選自動XY工作臺,以適應75-300mm晶圓尺寸。FilmTek?1500可測量正常入射時的透射率和反射率,是透明基材的理想選擇。

FilmTek?軟件包含完全用戶可定制的映射功能,可快速生成任何測量參數的2D和3D數據圖。除用戶定義的模式外,標準地圖模式還包括極坐標,XY,rθ或線性。

測量功能:

FilmTek?1000/1500結合SCI的廣義材料模型和先進的全局優化算法,可同時測定:

  • 多層厚度
  • 折射率[n(λ)]
  • 消光(吸收)系數[k(λ)]

低成本

FilmTek?1000/1500的擁有成本只是可比儀器的一小部分。

直觀的

FilmTek?1000軟件的設計使得在薄膜光學設計或測量技術方面需要最少的經驗。

應用

幾乎所有厚度從100埃到150微米的半透明膜都可以高精度測量。典型應用包括:

  • 半導體和電介質材料
  • 多層光學鍍膜
  • 光學增透膜
  • 電光材料
  • 計算機磁盤
  • 涂層玻璃
  • 激光鏡
  • 薄金屬

示例薄膜種類

  • SiOx
  • 氮化硅
  • DLC
  • SOG
  • 光刻膠
  • a-Si
  • a-C:H
  • ITO
  • 多晶硅
  • 聚酰亞胺
  • 低k電介質薄膜
  • 薄金屬

硬件

FilmTek?1000/1500包括:

  • VIS / NIR分光光度計
  • VIS / NIR光源
  • 光纖電纜
  • 固定平臺與光學系統
  • 運行Windows?7操作系統的多核處理器的計算機

可選功能:

  • 電腦控制的自動平臺
  • 用于查看測量位置的相機(適用于FilmTek TM 1000M)


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  • FilmTek?1000 / 1000M / 1500技術規格
    薄膜厚度范圍:10nm-350μm(10nm-150μm標準)
    薄膜厚度準確度:NIST可溯源標準氧化物1000?至1μm±2?
    光譜范圍:在380nm-950NM
    FilmTek?1000/1500測量點尺寸:2mm至5mm(5mm標準)
    FilmTek?1000M測量光斑尺寸:60μm(4x物鏡)或24μm(10x物鏡)
    樣本量:2mm至300mm
    光譜分辨率:為0.3nm
    FilmTek?1000/1500光源:穩定的鹵素燈(壽命為10,000小時)
    FilmTek?1000M光源:穩定的鹵素燈(使用壽命為2000小時)
    檢測器類型:2048像素索尼線性CCD陣列
    電腦:帶有Windows?7操作系統的多核處理器
    測量時間:每個部位<1秒(例如氧化膜)
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  • 性能規格
    薄膜(S)厚度測量參數精度(1σ)
    氧化物/硅100-1000nmt0.05納米
    1-150微米t0.005%?


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